光學(xué)測(cè)量儀產(chǎn)品及廠家
美國sonix 晶圓檢測(cè)設(shè)備 autowafe pro.為全自動(dòng)晶圓檢測(cè)設(shè)計(jì)的機(jī)型，主要應(yīng)用在bond wafer，mems 內(nèi)部空洞、離層檢測(cè)，tsv量測(cè)方面。
更新時(shí)間:2025-05-06
美國泰克tek keithley半導(dǎo)體參數(shù)分析儀4200a-scs ，加快半導(dǎo)體設(shè)備、材料和工藝開發(fā)的探索、可靠性和故障分析研究。 業(yè)內(nèi)領(lǐng)先性能參數(shù)分析儀，提供同步電流-電壓 (i-v)、電容-電壓 (c-v) 和超快脈沖 i-v 測(cè)量。
更新時(shí)間:2025-05-06
瑞士nanosurf 原子力顯微鏡coreafm ，非常智能地聯(lián)合了原子力顯微鏡的核心部件來實(shí)現(xiàn)最多功能化與用戶方便使用性. 正是由于這種基礎(chǔ)的設(shè)計(jì), coreafm非常合理的實(shí)現(xiàn)了最優(yōu)化的原子力顯微鏡的功能.
更新時(shí)間:2025-05-06
韓國ecopia霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)hms3000，hms5000，用于研究半導(dǎo)體材料/光電材料的電學(xué)特性，可以測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類型。
更新時(shí)間:2025-05-06
lfa 467 hyperflash 閃射法導(dǎo)熱儀，自由選擇測(cè)試氣氛，優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)置與閃射光源，16位自動(dòng)進(jìn)樣器，高的測(cè)量效率，寬廣的溫度范圍，靈活配備冷卻系統(tǒng)，設(shè)計(jì)獨(dú)特，性能優(yōu)異，配備氙燈光源的，高溫測(cè)試系統(tǒng)，寬廣的溫度范圍，真空密閉爐體，確保氣氛純凈，防止氧化，內(nèi)置微型管式爐，更高的測(cè)量效率，高數(shù)據(jù)采集速率- 用于薄膜與高導(dǎo)熱材料的解決方案
更新時(shí)間:2025-05-06
oai is a world leader in uv liight & energy measurement instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the semiconductor
更新時(shí)間:2025-05-06
日本理學(xué)x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無損方式xrd·mapping tool有多種光學(xué)元件可選的高精度測(cè)角儀，用于氮化鎵（gan)質(zhì)量管理，可對(duì)應(yīng)大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-05-06
日本理學(xué)x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無損方式xrd·mapping tool有多種光學(xué)元件可選的高精度測(cè)角儀，用于氮化鎵（gan)質(zhì)量管理，可對(duì)應(yīng)大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-05-06
ftpadv 臺(tái)式薄膜探針反射儀臺(tái)式薄膜探針反射儀ftpadv，ftpadv是一種具有成本效益的臺(tái)式反射膜厚儀解決方案，它具有非？焖俚暮穸葴y(cè)量。在100毫秒以內(nèi)進(jìn)行測(cè)量，其精度低于0.3nm，膜厚范圍在50 nm -25 μm。為了便于分光反射測(cè)量操作，該儀器包括了范圍廣泛的預(yù)定配方。
更新時(shí)間:2025-05-06
ftpadv expert 綜合薄膜測(cè)量軟件，光譜反射測(cè)量軟件ftpadv expert是專門為測(cè)量和分析r(λ)和t(λ)而設(shè)計(jì)的。用于確定各種材料的薄膜厚度、消光系數(shù)或折射率的光譜數(shù)據(jù)分析，這些參數(shù)都被加載到sentech光譜反射測(cè)量軟件中，使得能夠根據(jù)cauchy色散、drude振蕩給出的參數(shù)描述和擬合材料。
更新時(shí)間:2025-05-06
mdpinline 光伏測(cè)量儀器，一秒內(nèi)完成正片晶片掃描。mdpinline是為高速自動(dòng)掃描硅晶片而設(shè)計(jì)的，它以每片不到一秒的時(shí)間記錄少子壽命的全部形貌。利用微波檢測(cè)光電導(dǎo)率定量測(cè)量少子壽命。憑借其緊湊的設(shè)計(jì)，mdpinline可以靈活地集成在傳送帶上或晶片分選系統(tǒng)中。
更新時(shí)間:2025-05-06
mdpinline ingot 光伏測(cè)量儀器，多晶形貌少子壽命測(cè)量系統(tǒng)是為高產(chǎn)量生產(chǎn)用戶而設(shè)計(jì)的。對(duì)于一個(gè)面，以1毫米的分辨率，無接觸、無破壞地測(cè)量電阻率和少子壽命花費(fèi)不到一分鐘。電阻率和導(dǎo)電類型變化的自動(dòng)掃描可用于質(zhì)量控制和監(jiān)測(cè)爐子性能。面可以自動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，以便測(cè)量所有的四個(gè)側(cè)面。
更新時(shí)間:2025-05-06
mdpinline ingot 光伏測(cè)量儀器，多晶形貌少子壽命測(cè)量系統(tǒng)是為高產(chǎn)量生產(chǎn)用戶而設(shè)計(jì)的。對(duì)于一個(gè)面，以1毫米的分辨率，無接觸、無破壞地測(cè)量電阻率和少子壽命花費(fèi)不到一分鐘。電阻率和導(dǎo)電類型變化的自動(dòng)掃描可用于質(zhì)量控制和監(jiān)測(cè)爐子性能。面可以自動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，以便測(cè)量所有的四個(gè)側(cè)面。
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德國sentech激動(dòng)掃描系統(tǒng)mdppro,少子壽命測(cè)量儀器的特征在于以1mm分辨率對(duì)500mm的一個(gè)面在不到4分鐘內(nèi)完成掃描。電阻率和少子壽命的測(cè)量完全無觸摸。利用微波檢測(cè)光電導(dǎo)率(mdp)同時(shí)測(cè)量少子壽命、光電導(dǎo)率、電阻率和p/n導(dǎo)電類型的變化。
更新時(shí)間:2025-05-06
sensol是sentech光伏產(chǎn)品組合中的自動(dòng)大面積掃描儀器。自動(dòng)表征膜厚、薄層電阻、霧度、反射和透射的均勻性。使用sensol，可以監(jiān)測(cè)大型玻璃基板上的沉積過程的均勻性，從而可以顯著減少儀器維護(hù)后重新開始生產(chǎn)的時(shí)間。
更新時(shí)間:2025-05-06
senperc pv 是perc電池制造質(zhì)量控制的創(chuàng)新解決方案。senperc pv 測(cè)量al2o3/sinx堆疊層和用于鈍化perc電池的單層膜。監(jiān)測(cè)沉積過程的穩(wěn)定性。由此，可以優(yōu)化維護(hù)時(shí)間間隔。
更新時(shí)間:2025-05-06
德國sentech光伏測(cè)量儀器mdpspot，具有成本效益的臺(tái)式少子壽命測(cè)試儀mdpspot可用于表征晶片或面。它為少子壽命測(cè)量提供了一個(gè)測(cè)量點(diǎn)。 低成本桌面式壽命測(cè)量系統(tǒng)，用于手動(dòng)操作表征不同制備階段的各種不同硅樣品？蛇x的手動(dòng)操作z軸用于厚度多達(dá)156毫米的樣品。標(biāo)準(zhǔn)軟件可輸出可視化的測(cè)量結(jié)果。
更新時(shí)間:2025-05-06
薄膜反射和透射的在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng) rt inline 反射率、透射率和膜厚的高速在線測(cè)量是rt inline的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。傳感器頭陣列掃描薄膜在大型玻璃基板上的反射和/或透射，作為內(nèi)部參考測(cè)量。利用ftpadv expert軟件可以方便地進(jìn)行層沉積過程的在線監(jiān)測(cè)。軟件接口可用于與主機(jī)的數(shù)據(jù)通信。
更新時(shí)間:2025-05-06
sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長速率，厚度，折射率)，在短時(shí)間內(nèi)開發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ald循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-05-06
美國 mmr 霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng) h5000，用于研究光電材料的電學(xué)特性，利用范德堡測(cè)量技術(shù)測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類型。整套系統(tǒng)主要包括控制器、樣品室、磁場(chǎng)三部分。
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半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)kup007，emp100c，emp100b，emp50s
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德國mecwins 掃描式激光分析儀scala，它是用激光入射掃描樣品表面，收集反射信號(hào)得到樣品表面的三維形貌和特征。
更新時(shí)間:2025-05-06
美國nanovea三維表面形貌儀hs1000型，是一款高速的三維形貌儀，最高掃描速度可達(dá)1m/s,采用國際領(lǐng)先的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測(cè)試，具有測(cè)量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測(cè)量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場(chǎng)使用。
更新時(shí)間:2025-05-06
德國 yxlon 高分辨率ｘ射線檢測(cè)設(shè)備 y.cougar smt 平板探測(cè)器（標(biāo)配） y.cheetah 高速平板探測(cè)器（標(biāo)配）
更新時(shí)間:2025-05-06
美國royec芯片拾取及放置系統(tǒng)die pick & place systems,new !! ap+ 全自動(dòng)芯片分選系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-05-06
美國royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)de35-st ,最小200微米芯片拾取,可選配背面，側(cè)面檢測(cè),可選配芯片轉(zhuǎn)向功能.
更新時(shí)間:2025-05-06
美國rti自動(dòng)特性圖示儀 mt century curve tracer，是一個(gè)性價(jià)比較高的曲線追蹤設(shè)備。最多到96個(gè)channel，提供4種型號(hào)可供客戶選擇，mt century curve tracer 與rti其他大型curve trace擁有一樣的可靠性，功率和軟件。像其他rti機(jī)型一樣，mt century系統(tǒng)的設(shè)計(jì)有與950系列的測(cè)試夾具及其它專用夾具連接的接口。
更新時(shí)間:2025-05-06
德國klocke nanotech納米級(jí)三維測(cè)量儀3d nanofinger，是一種實(shí)用的納米精度坐標(biāo)和形貌綜合測(cè)量設(shè)備。由臺(tái)架、控制系統(tǒng)、探頭、針尖組成. 可測(cè)量樣品外形尺寸，表面輪廓、粗糙度等，并可與超精密微加工、微組裝系統(tǒng)組合，進(jìn)行在線檢測(cè)、質(zhì)量控制等。
更新時(shí)間:2025-05-06
日本a&d粒子計(jì)數(shù)器（粒度計(jì)）sv-1a,是使用點(diǎn)監(jiān)測(cè)的低成本替代設(shè)備,計(jì)數(shù)值高達(dá)2,000,000個(gè)粒子/ft.
更新時(shí)間:2025-05-06
美國filmetrics 薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)f20，f30，f40，f50，f60，f3-xxt 系列，臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-05-06
美國 sonix 超聲波掃描顯微鏡:echo-vs, echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,sonix echo vs™ 是專為更高精度要求，更復(fù)雜元器件設(shè)計(jì)的新一代設(shè)備。echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,編程自動(dòng)判別缺陷,高產(chǎn)量,無需人員重復(fù)設(shè)置.
更新時(shí)間:2025-05-06
德國bruker傅氏轉(zhuǎn)換紅外光譜儀ftir -利用紅外線光譜經(jīng)傅利葉轉(zhuǎn)換進(jìn)而分析雜質(zhì)濃度的光譜分析儀器。
更新時(shí)間:2025-05-06
德國bruker ft-nir光譜儀tango,mpa,matrix-i.ft-nir光譜儀已經(jīng)在包括制藥，食品，農(nóng)業(yè)和化學(xué)行業(yè)在內(nèi)的所有行業(yè)的質(zhì)量控制應(yīng)用中得到了很好的應(yīng)用。它為耗時(shí)的濕法化學(xué)方法和色譜技術(shù)提供了一種實(shí)用的替代方法。ft-nir無破壞性，不需要樣品制備或危險(xiǎn)化學(xué)品，使其定量和定性分析快速可靠。
更新時(shí)間:2025-05-06
德bruker光學(xué)輪廓儀contorugt-表面量測(cè)系統(tǒng)-供生產(chǎn)qc/qa及研發(fā)研用的非接解觸型光學(xué)輪廓儀
更新時(shí)間:2025-05-06
sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長速率，厚度，折射率)，在短時(shí)間內(nèi)開發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ald循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。
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美az 總輻射度/太陽能吸收率(tesa)便攜式反射計(jì) tesa 2000，根據(jù)astm e408測(cè)定熱發(fā)射率和空氣質(zhì)量為零時(shí)的太陽吸收率(空間應(yīng)用)。它緊湊，輕巧，堅(jiān)固耐用，符合人體工程學(xué)設(shè)計(jì)，便于在野外或?qū)嶒?yàn)室中使用。
更新時(shí)間:2025-05-06
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kl-28b/28bf( 光散射法）,粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.2μm， ≥0.5μm, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）
更新時(shí)間:2025-05-06
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-16/16f ( 光散射法）, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）, 粒徑范圍（5個(gè)通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm
更新時(shí)間:2025-05-06
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-17b ( 光散射法）,純水用，大粒子數(shù)濃度：100 000 顆/ml （誤差值低于5%），粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.05μm， ≥0.1μm （4通道需工廠定制）
更新時(shí)間:2025-05-06
日本理音rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f，寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-05-06
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-24 ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體？蓽y(cè) 0.1um 空氣顆粒度儀kc-24
更新時(shí)間:2025-05-06
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41a ( 光阻用），可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.15um 的顆粒。粒徑范圍（4個(gè)通道，出廠默認(rèn)）：≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm
更新時(shí)間:2025-05-06
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-18f ( 光散射法）液體光學(xué)顆粒度儀 ks-18f寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.05~0.2um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。 可偵測(cè)到小粒徑 0.05um 的粒子
更新時(shí)間:2025-05-06
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42a&42af ( 光散射法）,可測(cè)試 0.1~0.5um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-05-06
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42b/42bf ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.2~2.0um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-05-06
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41b，可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.1um 的顆粒。
更新時(shí)間:2025-05-06
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-05-06
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42c ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-05-06
日本理音 rion 粒子計(jì)數(shù)器 ks-20f，檢測(cè)粒徑為0.02μm的顆粒，從0.02μm到0.08μm可達(dá)7個(gè)通道
更新時(shí)間:2025-05-06
最新產(chǎn)品
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