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離子濺射儀產(chǎn)品及廠家

廣州儀弘IT-10固體負(fù)離子測(cè)試儀
廣州儀弘it-10固體負(fù)離子測(cè)試儀it-10采用美國(guó)最先進(jìn)的gm射線離子探測(cè)技術(shù)，來(lái)測(cè)量從天然礦石、陶瓷、電氣石等所產(chǎn)生的微弱放射線能量，通過(guò)大量實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)積累和精密的換算，將放射線能量運(yùn)用最先進(jìn)的處理程序換算成負(fù)離子數(shù)量，此方法可以得到非常精準(zhǔn)的測(cè)量。
更新時(shí)間:2025-10-27
日立高新磁控濺射器MC1000
日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極，能夠最大限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品直徑：60 mm日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品高度：20 mm
更新時(shí)間:2025-10-27
英國(guó)Prima離心機(jī)-上海坤科代理銷售
palm mini離心機(jī)是一款手掌型個(gè)人離心機(jī)。其提供多種適配器更換轉(zhuǎn)子, 性能可靠，操作簡(jiǎn)單方便，是微型離心管和pcr管快速離心的理想設(shè)備。蓋上蓋子，轉(zhuǎn)頭瞬間達(dá)到7000rpm,打開(kāi)蓋子，轉(zhuǎn)子迅速減速至停止，方便快速取走樣品。
更新時(shí)間:2025-10-27
Hitachi日立高新磁控濺射器MC1000
hitachi日立高新磁控濺射器mc1000
更新時(shí)間:2025-10-27
Q150T ES PLUS高真空離子濺射鍍膜儀
q150t es plus高真空離子濺射鍍膜儀裝在一個(gè)堅(jiān)固的特制整體成型機(jī)箱中，包括空氣冷卻的70l/s渦輪分子泵。自動(dòng)進(jìn)氣控制保證了鍍膜期間最佳的真空條件。
更新時(shí)間:2025-10-27
Q150R ES PLUS離子濺射/碳蒸發(fā)一體化鍍膜儀
q150r es plus離子濺射/碳蒸發(fā)一體化鍍膜儀適用于給樣品鍍制不氧化金屬膜（即貴金屬膜），標(biāo)配一塊金靶，也可選配金、銀、鉑、鈀、金/鈀合金及鉑/鈀合金等金屬靶；以及為eds樣品鍍制碳膜。（對(duì)于易氧化金屬的濺射鍍膜或需鍍制tem碳支持膜，請(qǐng)選購(gòu)q150t plus系列高真空鍍膜儀）
更新時(shí)間:2025-10-27
NSC-1000 磁控濺射系統(tǒng)
nsc-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-10-27
NSC-3000 (M) 磁控濺射系統(tǒng)
nsc-3000（m）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-10-27
NSC-3000 (A) 全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
nsc-3000（a）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-10-27
NSC-4000 (A) 全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
nsc-4000（a）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-10-27
高量程便攜式錳離子儀（0-1.0mg/L），便攜式錳離子儀
錳離子測(cè)試儀適用于大、中、小型水廠及工礦企業(yè)、生活或工業(yè)用水的鉻濃度檢測(cè)，以便控制水的錳達(dá)到規(guī)定的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
更新時(shí)間:2025-10-27

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